Materijal visoke razine Silikonski metal 551

Fluorovodonična kiselina i dušična kiselina se koriste za direktno otapanje uzorka u PTFE volumetrijskoj tikvici kako bi se izbjegao gubitak isparavanja elementa u najvećoj mjeri. Induktivno spregnuti emisioni spektrometar plazme za određivanje nečistoće elementa bora uSilikonski metal 551. Program korekcije smetnji elemenata IEC koristi se za zamjenu metode podudaranja matrice za uklanjanje smetnji elemenata, što je zgodno i brzo i više i operativnije. Rezultati su pokazali da su povdže su bili 96% ~ 104%, a relativno standardno odstupanje (RSD) (n =11) iznosilo je 2,09%.

1.Metoda za uklanjanje bora iz šljakemetalni silicijum 551. Uključuje metodu pročišćavanja za polisilicon, a pruža se metod šljake za uklanjanje borona silikonskih metala. Sredstvo za pravljenje šljake je prethodno rastonjen i utovaren u kantu za hranjenje, silikonski metal se učitava u topljenje, a argonski gas se napuni nakon usisavanja; Rastopljeni silikonski metalni materijal se zagrijava, a prethodno rastopljeni šljački uređaj dodaje se u rastopljeni tečni silikonski metalni materijal; Nakon reakcije, sililični materijal tekući metal izli se u kalup, ohlađen za dobivanje silikonskih ingota, dobijeni silikonski ingoti su zdrobljeni, brušeni i prosipaju kako bi dobili silikonski prah, a dobiveni silikonski prah natopljen u etanolu da ukloni ulje, a zatim očistiti vodom; Dobiveni silički prah natopljen je i opran se barem sa solu, sumpornoj kiselinom i azotnom kiselinom, hidrofluoričnom kiselinom, i hidroholoničnom kiselinom, i kiseli silicarski prah, a pokucao je čista voda za dobijanje silikonskog metala nakon uklanjanja silicijuma . Učinkovitost uklanjanja bora je velika, što može biti i više od 96%. Sadržaj bora u silicijskom metalu smanjen je sa 8ppmw na manje od 0. 3ppmw za ispunjavanje zahtjeva polisilicona SOLAR-a.

Popularni tagovi: Materijal visoke razine Silikonski metal 551, Kina Materijal visoke razine Silicijum Metal 551 Proizvođači, dobavljači, tvornica